国内唯一7nm光刻机哪里来的？
中国唯一一台7nm光刻机是由中国科学院微电子研究所自主研发的，其研发工作始于2014年，目前该机已经达到了工程样机阶段。
该光刻机的研发是中国在芯片制造领域的重要突破，也是在半导体制造领域最为核心、最具关键性的设备之一。
据官方消息，目前该光刻机已经完成了1万亿分之一级别的曝光，并且可以在300mm硅片上生产7nm级别的芯片。但是，该光刻机的性能仍有待进一步提高，目前与市场上的高端光刻机仍有一定差距。
从整个行业的角度来看，芯片制造过程中的光刻技术是一个重要而复杂的环节。目前，全球高端光刻机市场仍然被国外公司垄断。尽管中国研发出了7nm级别的光刻机，但在取得国际市场影响力和竞争力上还需要付出更多努力。
国内唯一的7nm光刻机是由中国大陆的企业“中芯国际”研发和生产的。中芯国际是中国的一家专业集成电路制造企业，于2000年成立，总部位于上海。其研发的7nm光刻机是用于制造集成电路芯片的关键设备，具有高精度、高效率等优势。
国内唯一的7nm光刻机是由中国科技大学与中国电子科技集团公司合作研发的。该光刻机采用了最先进的EUV（极紫外）技术，能够实现更高的分辨率和更小的芯片制造尺寸。这一成果标志着中国在半导体制造领域取得了重大突破，提升了国内半导体产业的竞争力。这台光刻机的研发和生产将对中国半导体产业的发展起到重要推动作用。