中端光刻机国产多少nm？
中国目前已经有多家公司开发生产了中端光刻机，其最小加工尺寸一般为70纳米（nm）至20纳米不等。
其中，比较知名的中国光刻机品牌有SMEE、微电子集团、芯片先锋等。例如，SMEE公司推出的中端光刻机SMEE 350B的最小加工尺寸可以达到20纳米，适用于制造芯片、光学器件、MEMS等领域。
需要注意的是，光刻机的加工精度和最小加工尺寸受到多种因素的影响，包括光刻机的光学系统、曝光光源、控制系统等。因此，在实际应用中，需要根据具体工艺要求和设备性能选择合适的光刻机。
中端光刻机的国产分辨率通常在20纳米至100纳米之间，这取决于具体的设备型号和技术水平。随着国内半导体产业的不断发展和进步，国产中端光刻机的分辨率也在逐步提高。但需要注意的是，不同厂家生产的光刻机性能和标准可能存在差异，需要根据实际需求进行选择。