深紫外光刻机能生产7纳米的吗？
可以。制造CPU：CPU制造需要使用光刻机将设计好的电路图案“刻印”在硅片上，深紫光刻机可以将曝光分辨率做到22纳米。
制造存储器：如内存条、闪存等，深紫的光源可以满足这类芯片的制造需求。
制造图像传感器：如手机摄像头中的CMOS图像传感器，深紫的光源可以满足这类芯片的制造需求。
制造LED芯片：深紫的光源可以满足这类芯片的制造需求。
总之，深紫光刻机是制造集成电路和微电子器件的重要工具，可以用于制造各种芯片和微电子器件。
深紫外光刻机是一种用于芯片制造的重要工具，可以在硅片上进行微米级别的图案化处理。目前，一些先进的深紫外光刻机已经能够实现7纳米级别的制程。这是通过进一步提高光刻机的光源能量、提高光刻胶的解析度以及优化镜头系统等方式来实现的。深紫外光刻机在微电子行业起到了至关重要的作用，为追求更小、更高性能的芯片提供了关键的制造技术支持。
深紫外光刻机可以生产7纳米的芯片。深紫外光刻机使用的是波长为193nm的紫外线，而EUV光刻机使用的是波长小于13.5纳米的极紫外光，因此需要使用EUV光刻胶。