荷兰光刻机什么时候发明的？
荷兰光刻机技术的发明于 20 世纪 80 年代，当时荷兰公司 ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）开始涉足光刻机领域。在随后的几十年中，ASML 通过不断并购和研发，逐渐成为了全球光刻机技术的领导者。
ASML 的发展历程中，最重要的事件之一是其在 1995 年收购了飞利浦的光刻机业务。飞利浦是当时全球光刻机技术的领导者之一，其技术知识和经验为 ASML 的发展提供了有力的支持。此后，ASML 不断加大对光刻机技术的研发投入，并逐步取得了一系列技术突破。
21 世纪初，ASML 成功研发出了第一台采用极紫外光（EUV）的光刻机，这是光刻机技术的重要里程碑
荷兰光刻机是在20世纪60年代末至70年代初由荷兰凯米特公司（KEMET）的工程师团队发明的。该团队的成员包括Jan Beutick、Jan Dicker、Harry van der Voet和Alb. Vogelaar。光刻机是一种用于制造集成电路的关键设备，它通过将光线投射到光刻胶上，然后通过化学或物理方法将图案转移到基板上，从而实现电路的制造。荷兰光刻机的发明使得集成电路制造领域取得了重大突破，为现代电子设备的发展做出了重要贡献。这项技术的出现极大地推动了计算机、移动通信和其他电子产品的普及和发展。
尼埃普斯
1822年法国人Nicephore niepce(尼埃普斯)发明了光刻机,起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕,当其出现在了玻璃片上后,经过一段时间的暴晒,透光的部分就会变得很硬,但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉
1、荷兰光刻机起源于荷兰的Philips公司，该公司在1970年代末期研制出了第一台光刻机。
2、它采用了高压汞灯作为光源，并结合了微影技术实现了微细特征图形的制备。
3、随后，荷兰的ASML公司、欧洲的ZEISS公司、日本的尼康公司等纷纷投入到光刻机的研制中，逐渐推动了光刻机技术的发展和微电子产业的进步。